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具有螢幕顯示按鍵的多功能控制裝置
109PE0001

材料系   武東星老師

一種具有螢幕顯示按鍵的多功能控制裝置,用於控制多種電器產品,包含框架、設置於框架中的主電路板,及多數按鍵組件。各按鍵組件設置於主電路板並包括具有連接座的電路板、設置於電路板的接觸開關、架設於接觸開關上的輔助套、穿設於輔助套的驅動電路板、連接驅動電路板的顯示模組,及透光蓋。驅動電路板具有可拆卸地接合於其所對應之連接座的連接件。當其中一按鍵組件損毀時,能輕易地汰換驅動電路板與顯示模組,以維持按鍵組件的運作功能。

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大面積被動式微發光二極管陣列顯示器
108PE1005

材料系   武東星老師

大面積被動式微發光二極體陣列顯示器包括數個具基板、微發光陣列及陣列用絕緣層的微發光二極管陣列與具載板、數第一、二外部線路、線路用絕緣層及電性鍵合單元 的外部線路組件。 微發光陣列沿Y方向間隔佈滿基板表面且沿X方向各具延伸於表面的第一層、數發光層、數第二層、設於第一層的第一內電極層及數設於各 第二層的第二內電極層。 各第一內電極層具間隔圍繞各發光層的基部及自基部凸出的凸部。 陣列以絕緣層覆蓋微發光陣列以露出各凸部與第二內電極層。 微發光二極體陣列比鄰並間隔配置且各凸部與第二內電極層鍵結於電性鍵結單元。 微發光陣列佈滿基板表面並配合外部線路組件能有效利用面積且可先檢測確保其正常運作於擴增顯示面積時提前排除問題。

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大面積被動式微發光二極體陣列顯示器
108PE1004

材料系   武東星老師

一種大面積被動式微發光二極體陣列顯示器,包括數各具基板、微發光陣列及陣列用絕緣層的微發光二極體陣列,及具載板、數第一、二外部線路、線路用絕緣層及電性鍵合單元的外部線路組件。微發光陣列沿Y方向間隔佈滿基板表面,且沿X方向各具延伸於表面的第一層、數發光層、數第二層、設於第一層的第一內電極層及數設於各第二層的第二內電極層。各第一內電極層具間隔圍繞各發光層的基部及自基部背向表面凸出的凸部。陣列用絕緣層覆蓋微發光陣列以裸露出各凸部與各第二內電極層。微發光二極體陣列比鄰並間隔配置且各凸部與第二內電極層鍵合於電性鍵合單元。

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亮度均勻的被動式微發光二極管陣列裝置
108PE1003

材料系   武東星老師

亮度均勻之被動式微發光二極體陣列裝置包括微發光二極體陣列及外部線路組件。微發光二極體陣列包括基板、數沿Y方向間隔佈滿基板的微發光陣列及陣列用絕緣層。各微發光陣列依序具一沿X方向延伸於基板的第一層、數間隔的發光層、第二層、第一內電極層,更具一延伸於第一層並具間隔圍繞發光層的基部及自基部凸伸之凸部的第二內電極層。陣列用絕緣層覆蓋基板並裸露第一、二內電極層。外部線路組件包括面向基板的載板、各沿Y、X方向間隔並沿X、Y方向延伸於載板的第一、二外部線路、裸露出第一、二外部線路的線路用絕緣層及鍵合於第一、二外部線路與第一、二內電極層的電性鍵合單元。

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亮度均勻之被動式微發光二極體陣列裝置
108PE1002

材料系   武東星老師

亮度均勻之被動式微發光二極體陣列裝置包括微發光二極體陣列及外部線路組件。微發光二極體陣列包括基板、數沿Y方向間隔佈滿基板的微發光陣列及陣列用絕緣層。各微發光陣列依序具一沿X方向延伸於基板的第一層、數間隔的發光層、第二層、第一內電極層,更具一延伸於第一層並具間隔圍繞發光層的基部及自基部凸伸之凸部的第二內電極層。陣列用絕緣層覆蓋基板並裸露第一、二內電極層。外部線路組件包括面向基板的載板、各沿Y、X方向間隔並沿X、Y方向延伸於載板的第一、二外部線路、裸露出第一、二外部線路的線路用絕緣層及鍵合於第一、二外部線路與第一、二內電極層的電性鍵合單元。

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大面積被動式微發光二極體陣列顯示器
108PE0003

材料系   武東星老師

一種大面積被動式微發光二極體陣列顯示器,包括數各具基板、微發光陣列及陣列用絕緣層的微發光二極體陣列,及具載板、數第一、二外部線路、線路用絕緣層及電性鍵合單元的外部線路組件。微發光陣列沿Y方向間隔佈滿基板表面,且沿X方向各具延伸於表面的第一層、數發光層、數第二層、設於第一層的第一內電極層及數設於各第二層的第二內電極層。各第一內電極層具間隔圍繞各發光層的基部及自基部背向表面凸出的凸部。陣列用絕緣層覆蓋微發光陣列以裸露出各凸部與各第二內電極層。微發光二極體陣列比鄰並間隔配置且各凸部與第二內電極層鍵合於電性鍵合單元。

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亮度均勻之被動式微發光二極體陣列裝置
108PE0002

材料系   武東星老師

亮度均勻之被動式微發光二極體陣列裝置包括微發光二極體陣列及外部線路組件。微發光二極體陣列包括基板、數沿Y方向間隔佈滿基板的微發光陣列及陣列用絕緣層。各微發光陣列依序具一沿X方向延伸於基板的第一層、數間隔的發光層、第二層、第一內電極層,更具一延伸於第一層並具間隔圍繞發光層的基部及自基部凸伸之凸部的第二內電極層。陣列用絕緣層覆蓋基板並裸露第一、二內電極層。外部線路組件包括面向基板的載板、各沿Y、X方向間隔並沿X、Y方向延伸於載板的第一、二外部線路、裸露出第一、二外部線路的線路用絕緣層及鍵合於第一、二外部線路與第一、二內電極層的電性鍵合單元。

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磊晶層的修復方法及使用該方法修復的光電元件
108PC1002

材料系   武東星老師

一種磊晶層的修復方法,包含準備步驟、升溫步驟、霧化步驟,及修復步驟。首先,準備步驟是準備一可被霧化且包括氮元素的工作液體,及一具有一腔室的退火裝置,接著執行升溫步驟,對該退火裝置的該腔室升溫至一預定溫度,並透過霧化步驟霧化該工作液體並輸入經升溫的該腔室中,最後修復步驟是將具有經蝕刻造成損傷的該磊晶層的該光電元件設置於該腔室中,以讓經霧化的該工作液體修復該磊晶層。此外,本發明還提供一種使用前述方法製成的光電元件。

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磊晶層的修復方法及使用該方法修復的光電元件
107PC0022

材料系   武東星老師

一種磊晶層的修復方法,包含準備步驟、升溫步驟、霧化步驟,及修復步驟。首先,準備步驟是準備一可被霧化且包括氮元素的工作液體,及一具有一腔室的退火裝置,接著執行升溫步驟,對該退火裝置的該腔室升溫至一預定溫度,並透過霧化步驟霧化該工作液體並輸入經升溫的該腔室中,最後修復步驟是將具有經蝕刻造成損傷的該磊晶層的該光電元件設置於該腔室中,以讓經霧化的該工作液體修復該磊晶層。此外,本發明還提供一種使用前述方法製成的光電元件。

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發光二極體之發光波段的調變方法
105PC0010X

材料系   武東星老師

一種發光二極體之發光波段的調變方法,依序包含(a)對一磊製於一磊晶基板上的一發光二極體中的第二型半導體層施予一含有複數帶電離子之電漿處理,令該第二型半導體層的一表面上接合有部分該等帶電離子;(b)在該第二型半導體層的該表面上塗佈一含有複數奈米金屬粒子之溶液,令該等奈米金屬粒子堆疊於該第二半導體層的該表面上;(c)乾燥該溶液;及(d)在該等奈米金屬粒子上沉積一導電性金屬氧化層。該第二型半導體層上所接合的部分該等帶電離子協同該等奈米金屬粒子及該導電性金屬氧化層足以令該發光二極體的一發光波段產生偏移。

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高光萃取率的發光二極管、導電膜,及導電膜的製作方法
103PE1002

材料系   武東星老師

本發明主要提供一種高光萃取率的發光二極管,包含一個基板,一個形成在該基板的發光單元,一個形成在該發光單元的導電膜,及兩個分別接觸連接該導電膜和該發光單元用以自外界提供電能的電極。該導電膜包括一個能導電且透光的膜本體,及一個形成於該膜本體的堆棧結構。該堆棧結構由多個納米粒子週期性地排列堆棧,且所述納米粒子其中的多個與該膜本體的組成結構形成多個堆棧物,借該堆棧結構或所述堆棧物,與該發光單元間引發表面電漿共振而大幅提升發光二極管整體的光萃取率。本發明還提供該導電膜的製作方法。

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高光萃取率的發光二極體、導電膜,及導電膜的製作方法
103PE1001

材料系   武東星老師

本發明主要提供一種高光萃取率的發光二極體,包含一基板、一形成在該基板的發光單元、一形成在該發光單元的導電膜,及二分別接觸連接該導電膜和該發光單元用以自外界提供電能的電極。特別地,該導電膜包括一能導電且透光的膜本體,及一形成於該膜本體的堆疊結構。該堆疊結構由複數奈米粒子週期性地排列堆疊,且該等奈米粒子其中之多數與該膜本體的組成結構形成複數堆疊物,藉該堆疊結構或該等堆疊物,與該發光單元間引發表面電漿共振而大幅提昇發光二極體整體的光萃取率。本發明還提供該導電膜的製作方法。

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高光萃取率的發光二極體、導電膜,及導電膜的製作方法
103PE0004

材料系   武東星老師

本發明主要提供一種高光萃取率的發光二極體,包含一基板、一形成在該基板的發光單元、一形成在該發光單元的導電膜,及二分別接觸連接該導電膜和該發光單元用以自外界提供電能的電極。特別地,該導電膜包括一能導電且透光的膜本體,及一形成於該膜本體的堆疊結構。該堆疊結構由複數奈米粒子週期性地排列堆疊,且該等奈米粒子其中之多數與該膜本體的組成結構形成複數堆疊物,藉該堆疊結構或該等堆疊物,與該發光單元間引發表面電漿共振而大幅提昇發光二極體整體的光萃取率。本發明還提供該導電膜的製作方法。

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發光二極體
102PC1018

材料系   武東星老師

一種發光二極體,包含:一個磊晶基材、一層發光層、一層電子穿隧層、一層電流擴散層,及一個電極單元,其特徵在於該電子穿隧層選自AlxIn1-xN,0<x<1為材料所構成且厚度不大於20nm,藉由該電子穿隧層的材料選擇及厚度控制,令電子可藉由穿隧效應,自該電流擴散層歐姆傳遞至該電子穿隧層,而可有效使得自該電流擴散層的電流可經由該電子穿隧層均勻且有效率的注入至該發光層,而可提升該發光二極體的發光效率。

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發光二極體
102PC0036

材料系   武東星老師

一種發光二極體,包含:一個磊晶基材、一層發光層、一層電子穿隧層、一層電流擴散層,及一個電極單元,其特徵在於該電子穿隧層選自 AlxIn1-xN,0<x<1 為材料所構成且厚度不大於 20nm,藉由該電子穿隧層的材料選擇及厚度控制,令電子可藉由穿隧效應,自該電流擴散層傳遞至該電子穿隧層,而可有效使得自該電流擴散層的電流可經由該電子穿隧層均勻且有效率的注入至該發光層,而可提升該發光二極體的發光效率。

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垂直導通式發光二極體的製作方法及其製品
101PE0005

材料系   武東星老師

垂直導通式發光二極體包含:磊晶基板、磊晶膜層結構、第一電極、反射層、第二電極層及散熱層。磊晶基板具第一、二板本體及鍵合於各板本體之第一表面間的黏結層。第一板本體具貫穿其第一表面及遠離黏結層的第二表面的內圍繞面。黏結層與第二板本體各具內環面。磊晶膜層結構形成於第二板本體之遠離黏結層的第二表面,並具導電性GaN層及內環面。內圍繞面與各內環面共同界定一空腔並裸露導電性GaN層於空腔外。第一電極形成於磊晶膜層結構。反射層覆蓋導電性GaN層。第二電極層覆蓋反射層、各內環面、內圍繞面及其第二表面。散熱層覆蓋第二電極層。

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磊晶基板的製作方法
101PE0004

材料系   武東星老師

本發明提供一種磊晶基板的製作方法,是用以於其上成長一磊晶膜層結構以構成一垂直導通式發光二極體,該磊晶膜層結構是由一以氮化鎵為主的材料所構成。該製作方法包含:(a)於一第一單晶板本體的一第一表面形成一第一鍵合層;(b)於一第二單晶板本體的一第一表面形成一第二鍵合層;(c)以熱壓法使該第一鍵合層與該第二鍵合層鍵合在一起並從而形成一黏結層;及(d)於該步驟(c)後,自該第二單晶板本體之一相反於其第一表面的第二表面薄化第二單晶板本體,第二單晶板本體的第二表面是用以成長該磊晶膜層結構。

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固態發光結構的製造方法
101PE0002

材料系   武東星老師

一種固態發光結構的製造方法,先在第一基板上形成氮化鎵系材料無法磊晶成長的犧牲層,再移除部分犧牲層的結構得到圖案化的犧牲層結構;然後以朝三維方向成長的磊晶生長自第一基板的預定區域形成由氮化鎵系材料構成的第一半導體結構、以朝橫向成長速度較快的磊晶生長自第一半導體結構向上形成第二半導體層、和由第二半導體層向上成長供電時發光的發光晶體層;在發光晶體層表面接合上第二基板後移除犧牲層結構形成蝕刻通道,再經由蝕刻通道移除第一基板、第二半導體層後,即製得連結在第二基板與發光晶體層的固態發光結構。

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磊晶用基板
099PE1007S

材料系   武東星老師

一種磊晶用基板包含一磊晶用的基材、一形成於基材的犧牲膜,及一磊晶形成於犧牲膜的半導體磊晶膜,犧牲膜包括複數膜區及複數由膜區界定的第一通道,每一膜區具有一奈米材料及複數由奈米材料界定的第二通道,濕式蝕刻劑藉由第一、第二通道得以快速地滲入犧牲膜中,進而快速蝕刻犧牲膜並有效地加速了移除基材的速率。

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光電元件之磊晶基板的分離方法
099PE1006S

材料系   武東星老師

本發明提供光電元件之磊晶基板的分離方法,先於磊晶基材上形成具有多數間隔之膜體結構的犧牲膜後側向磊晶形成磊晶層,接著在磊晶層上形成將磊晶層定義出多數具有頂面之磊晶膜的遮罩層,再利用遮罩層的分隔自每一頂面向上形成與磊晶膜電連接的導電基塊,然後移除遮罩層並繼續移除對應於遮罩層的磊晶層層體結構,再濕蝕刻移除犧牲膜以及磊晶膜與磊晶基材連接處,即可讓磊晶層與磊晶基材分離得到多數具有粗糙面的光電元件半成品,最後於每一光電元件半成品上設置電極,即製得多數光電元件。

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振動應力消除技術

材料系    吳威德教授 

當金屬物件經傳統製程處理後(如:銲接、鍛造、鑄造、熱處理等),皆會造成應力,而應力的存在會造成材料不安定,且往往為材料破損的袑始原因,故如何有效降低材料的殘留應力是一項重要的課題。目前常用的應力消除方法分為熱處理法與振動法,熱處理法因使用上對材料種類與尺寸大小有限制,而振動法對於所有金屬物件與尺寸皆適用,導致振動消除應力技術在不同金屬製程領域受到相當的重視。

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厚膜負溫度係數熱敏電阻技術

材料系    李文熙教授 

利用厚膜印刷方式取代傳統積層陶瓷方式製作高精準電阻值之負溫度係數熱敏電阻器有低成本高良率的優勢。其最重要關鍵技術有1).低溫、低電阻率與高電阻溫度係數之厚膜材料開發,2).網版印刷厚膜NTC電阻膏有機材料配方開發與3).厚膜NTC修阻雷切技術開發。

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天然黏土應用

材料系    林江珍教授 

本發明提供一種有害微生物抑制劑,係將完全脫層的奈米矽片與適當媒介或載體混合而成。與細菌與病毒等有害微生物接觸時,可藉由矽片的高度片徑比高電荷性來吸附細菌,以抑制有害微生物的生長與活動。

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一種曼尼斯胺改質黏土與其衍生之奈米矽片及其製造方法

材料系    林江珍教授 

本發明是提供一種具有優質界面活性劑效能,並可做為高分子補強劑之曼尼斯胺改質黏土和進一步所製得之奈米矽片,其係以分子量1000以上之聚醚胺、對甲酚及甲醛聚合成一直鏈狀之曼尼斯胺高分子插層劑,並以該插層劑改質矽氧層狀無稽黏土例如蒙脫土而得之曼尼斯胺改質黏土。

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固態發光結構的製造方法

材料系    武東星  洪瑞華  潘俊廷教授 

一種固態發光結構的製造方法,先在第一基板上形成氮化鎵系材料無法磊晶成長的犧牲層,再移除部分犧牲層的結構得到圖案化的犧牲層結構;然後以朝三維方向成長的磊晶生長自第一基板的預定區域形成由氮化鎵系材料構成的第一半導體結構、以朝橫向成長速度較快的磊晶生長自第一半導體結構向上形成第二半導體層、和由第二半導體層向上成長供電時發光的發光晶體層;在發光晶體層表面接合上第二基板後移除犧牲層結構形成蝕刻通道,再經由蝕刻通道移除第一基板、第二半導體層後,即製得連結在第二基板與發光晶體層的固態發光結構。

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提升紫外光發光二極體外部量子效率之方法

材料系    武東星教授 

提供一具有表面電漿共振效應之透明導電薄膜,該薄膜可用透明導電氧化物薄膜嵌入奈米金屬堆疊層形成,當作歐接觸層。由於金屬奈米粒子塗層可形成區域性表面電漿,並與橫向磁波™偏振光產生耦合效應,可有效提升紫外光發光二極體元件光萃取效率。

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磊晶元件的製作方法

材料系    武東星教授  洪瑞華教授 

一種製造半導體器件的方法,包括:(a)形成分層結構,該分層結構包括臨時基板,臨時基板上的多個間隔開的犧牲膜區域,以及犧牲膜區域中的多個谷峰區域;(b)在犧牲膜區域和谷-峰區域上橫向和磊晶生長磊晶膜層,其中在磊晶膜層和谷-峰區域之間形成間隙;(c)形成導電層以接觸磊晶膜層;(d)形成多個凹槽,以將磊晶膜層和導電層分成臨時基板上的多個磊晶結構。

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具有螢幕顯示按鍵的多功能控制裝置

材料系    武東星教授  洪瑞華教授  陳亘延  廖宗聘 

一種具有螢幕顯示按鍵的多功能控制裝置,用於控制多種電器產品,包含框架、設置於框架中的主電路板,及多數按鍵組件。各按鍵組件設置於主電路板並包括具有連接座的電路板、設置於電路板的接觸開關、架設於接觸開關上的輔助套、穿設於輔助套的驅動電路板、連接驅動電路板的顯示模組,及透光蓋。驅動電路板具有可拆卸地接合於其所對應之連接座的連接件。當其中一按鍵組件損毀時,能輕易地汰換驅動電路板與顯示模組,以維持按鍵組件的運作功能。

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亮度均勻之被動式微發光二極體陣列裝置

材料系    武東星教授  洪瑞華教授  陳柏瑋 

亮度均勻之被動式微發光二極體陣列裝置包括微發光二極體陣列及外部線路組件。微發光二極體陣列包括基板、數沿Y方向間隔佈滿基板的微發光陣列及陣列用絕緣層。各微發光陣列依序具一沿X方向延伸於基板的第一層、數間隔的發光層、第二層、第一內電極層,更具一延伸於第一層並具間隔圍繞發光層的基部及自基部凸伸之凸部的第二內電極層。陣列用絕緣層覆蓋基板並裸露第

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大面積被動式微發光二極體陣列顯示器

材料系    武東星教授  洪瑞華教授  陳柏瑋  袁碩璜 

一種大面積被動式微發光二極體陣列顯示器,包括數各具基板、微發光陣列及陣列用絕緣層的微發光二極體陣列,及具載板、數第

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陽離子結合劑及包含其之醫藥組合物

材料系    汪俊延教授 

本發明可應用於水質陰離子淨化處理程序或作為於生化環境的陰離子吸收與釋放功能材料。例如,可能提供一種用於治療患有或易患高磷血症病人的醫藥組合物。本發明還提供製造此化學成分粉末組合物的方法。一種藥物或陰離子載體作為在特定pH值環境下釋放該藥物或吸收陰離子。

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微晶粉末製備與提升其陰離子吸附技術

材料系    汪俊延教授 

本know-how技術包括微晶化粉末材料的製備程序、製備條件與熱處理程序。本微晶化粉末有利於吸附溶液中的陰離子,並造成微晶化粉末與陰離子結合,避免該陰離子於後續化學處理或生化處理過程中再次脫離至溶液中。材料粉末主要成分可能為C、H、O、Mg、Fe等;本粉末需控制其微觀材料具備淨正或負電荷,以利於吸附相關的離子物質。

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石墨烯/石墨高硬度自潤表面處理層

材料系    汪俊延教授 

以放電合金化法(Electrical Discharge Alloying, EDA)對AA6082合金進行表面 改質,放電合金化法為放電加工法逆電極之變化,本研究以純鐵電極作為負極,透過不同階段及改變不同電氣參數之放電,達到改善AA6082磨潤性質的效果,根據實驗結果顯示,兩階段放電後(脈衝時間2000 s、放電電流30 A)表面粗糙度(Ra)約為7.24 m,合金化層硬度可達到1400 HV以上,且開始有石墨相的出現,而根據文獻指出 石墨具備良好的潤滑效果。

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低溫結晶之透明導電薄膜製造方法及利用該方法所製成之物

材料系    薛富盛教授 

本發明係提出一種低溫結晶之透明導電薄膜製造方法及其利用該方法製成之導電薄膜。其中該方法係以氧化銦為主要成分之一靶材對一基板進行物理氣相沉積,其特徵在於:該靶材包含一二氧化錫成分及一過渡元素氧化物成分,且該二氧化錫相對該靶材整體之重量百分比小於或等於8wt.%;該過渡元素氧化物相對該靶材整體之重量百分比小於或等於2.5wt.%,其中該過渡元素氧化物種類為涵蓋四價或四價以上元素之氧化物,又該物理氣相沉積之環境溫度係可於室溫下進行。藉此,可於一般室溫下於該基板上形成結晶態之薄膜,且該薄膜具有低電阻、高光透之物理特性。

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TiZrHf氮化物薄膜加值應用於摩擦攪拌頭

材料系    薛富盛教授  蔡篤承 

鈦鋯鉿金屬氮化物為四元體系薄膜材料,元素組成配比視窗較廣,固溶強化作用強烈,機械性質與熱穩定性更高於傳統材料。由於靶材重元素配比,直接提高濺鍍粒子動能,無需外加偏壓或者高功率脈衝設備即可鍍製高品質硬質薄膜。鈦鋯鉿金屬氮化物同屬IV族元素,固溶之後仍能保持淡金黃色澤,附加價值較高。目前應用於摩擦攪拌銲接頭上,並已證實可延長3倍的使用壽命。

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具氫氧基磷灰石及明膠的微米球製備方法

材料系    顏秀崗教授 

一種具氫氧基磷灰石及明膠的微米球製備方法,係應用在生醫複合技術中,主要技術在於利用水熱法在明膠水溶液中加入磷酸二氫氨和硝酸鈣,並在適當的加熱溫度、攪拌時間及攪拌速率下製備生成微米球,本發明之製備方法不需任何有機溶劑,可以避免毒性化學物質的殘留,亦不需調整pH值或加入交聯劑,只需控制在特定溫度範圍下即可生成具氫氧基磷灰石及明膠的微米球。

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