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太陽能吸收裝置
107PC1010

材料系   呂福興老師

本發明係一種太陽能吸收裝置,由一基材與一太陽能吸收膜所組成,該太陽能吸收膜具有一底面與一頂面,該底面係與該基材連接,該頂面則相背與該底面,該太陽能吸收膜之成份為TiN xOy,由該底面至該頂面,x由1變至0.1,y由0.2變至2;藉此,該太陽能吸收裝置不僅結構單純、製程快速,而且成本低廉,極具市場競爭潛力。

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太陽能吸收裝置
107PC0012

材料系   呂福興老師

本發明係一種太陽能吸收裝置,由一基材與一太陽能吸收膜所組成,該太陽能吸收膜具有一底面與一頂面,該底面係與該基材連接,該頂面則相背與該底面,該太陽能吸收膜之成份為TiN xOy,由該底面至該頂面,x由1變至0.1,y由0.2變至2;藉此,該太陽能吸收裝置不僅結構單純、製程快速,而且成本低廉,極具市場競爭潛力。

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製備金屬氮化物膜之方法
102PC1020T

材料系   呂福興老師

一種製備金屬氮化物膜之方法,係先將一靶材與一基材置入一真空腔體中,該靶材係由鈦或鋯所製成;接著,再利用濺鍍法於該基材表面形成一金屬氮化物膜,該金屬氮化物膜係氮化鈦膜或氮化鋯膜,其中,真空腔體之工作壓力固定於5×10-4~5×10-2 torr,通入空氣與氬氣於該真空腔體中,空氣/氬氣之流量比為(5~15)/100,以一電源供應器提供輸出功率為100~5000 W之直流電,由於空氣之取得極為方便,且背景真空度之要求較習知方法為低,使本發明所提供之方法具有設備簡易、製程快速、成本低廉等優點。

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電沈積銅奈米粒子之方法
101PC1001

材料系   呂福興老師

本發明提供一種電沈積銅奈米粒子之方法,其包括下列步驟:(A)提供一電沈積反應系統,該電沈積反應系統包括一電解液、一置於電解液中的導電氮化物膜作為工作電極、一置於電解液中的銅金屬或銅合金作為輔助電極、以及一置於電解液中的參考電極;以及(B)施加脈衝電壓於該電沈積反應系統,使該導電氮化物膜表面形成銅奈米粒子。

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電沈積銅奈米粒子之方法
101PC0005

材料系   呂福興老師

本發明提供一種電沈積銅奈米粒子之方法,其包括下列步驟:(A)提供一電沈積反應系統,該電沈積反應系統包括一電解液、一置於電解液中的導電氮化物膜作為工作電極、一置於電解液中的銅金屬或銅合金作為輔助電極、以及一置於電解液中的參考電極;以及(B)施加脈衝電壓於該電沈積反應系統,使該導電氮化物膜表面形成銅奈米粒子。

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利用電漿電解氧化製備氧化物膜的方法
100PC1003

材料系   呂福興老師

本發明有關於一種利用電漿電解氧化製備氧化物膜的方法,其係先將一陽極以及一陰極置入一電解質溶液中,其中該陽極為具有導電氮化物膜的基材,而該電解質溶液的溫度範圍大於20℃且小於100℃,接著再將50 V至1000 V的電壓施加於該陽極以及該陰極,最終在該陽極的導電氮化物膜的表面形成一氧化物膜。相較於習用製備氧化物膜的方法,本發明不僅能夠更快速地製得氧化物膜,且製得之氧化物膜的結晶性較佳。

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製備金屬氮化物膜之方法
097PC036

材料系   呂福興老師

本發明是以物理氣相沈積法,利用空氣(air )取代純氮氣(N2),與氬氣(Ar)一起,在電漿環境下,控制不同的氬氣(Ar)與空氣(air)的比值,製備出金屬氮化物(MNx)薄膜,本發明能有效降低設備與製程成本,將使其金屬氮化物(MNx)薄膜應用更為廣泛。 以氮化鈦(TiNx)或氮化鋯(ZrNx)而言,在電漿環境下,背景壓力只需抽1~3分鐘,即可進行製備。而使用空氣(air)作為反應性氣體,以適當的air/Ar比例,所鍍著之薄膜,經X光繞射儀與特性檢定,確定能成功製備出氮化薄膜。

製備金屬氮氧化物膜之方法
096PC072

材料系   呂福興老師

一種製備金屬氮氧化物膜之方法,係先將一金屬靶材與一基材置入一真空腔體中,該金屬靶材係由鈦、鋯、鉻或其合金所製成,並將背景壓力保持在5×10-6~5×10-2 torr;接著,利用物理氣相沈積法於該基材表面形成一金屬氮氧化物膜,沈積時該真空腔體之工作壓力保持於5×10-4~5×10-2 torr,並將空氣與氬氣通入該真空腔體中,其中空氣/氬氣之流量比為(12~70)/100;由於空氣之取得較純氧與純氮方便得多,且背景真空度之要求較習知方法為低,使本發明所提供之方法具有設備簡易、製程快速、成本低廉等多重優點。

半導體裝置和其製造方法
107PF1001X

材料系   宋振銘老師

本發明涉及種用於製造半導體裝置的方法。所述方法包含:提供包含第金屬接點的第電子元件和包含第二金屬接點的第二電子元件,改變所述第金屬接點的晶格,以及在預定壓力和預定溫度下將所述第金屬接點接合到所述第二金屬接點。

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半導體元件接合方法
106PF1012X

材料系   宋振銘老師

本發明涉及種用於製造半導體裝置的方法。所述方法包含:提供包含第金屬接點的第電子元件和包含第二金屬接點的第二電子元件,改變所述第金屬接點的晶格,以及在預定壓力和預定溫度下將所述第金屬接點接合到所述第二金屬接點。

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非鍍式銅及銅合金表面改質的方法
106PC0003

材料系   宋振銘老師

一種非鍍式銅及銅合金表面改質的方法,包含一氧化前處理步驟及一低溫粗糙多孔化步驟。該氧化前處理步驟是對一包括銅的待處理物加熱,使該待處理物的表面產生一氧化層。該低溫粗糙多孔化步驟是加熱一包括有機酸氣體的混合氣體,並讓經加熱的該混合氣體經鉑催化而噴向該待處理物的該氧化層,以還原該氧化層而形成一粗糙多孔銅表面。本發明先執行該氧化前處理步驟再進行該低溫粗糙多孔化步驟,能快速改質該待處理物,有別於其他表面改質方法需要濺鍍、蒸鍍,或機械加工等繁複的製程。

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具有複合結構的接合材料
102PF0006

材料系   宋振銘老師

一種具有複合結構的接合材料,經燒結後可用以進行二物件的接合,包含一核心,及多個環繞該核心的奈米粒子,該核心由金屬材料構成且平均粒徑不大於1000 nm,而該等奈米粒子由金屬材料構成且可與該核心的金屬材料相同或不同,其中,該核心的粒徑為該等奈米粒子的粒徑的10倍以上。

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二氧化鈦多孔性材料、其製備方法及應用其之污水處理方法
105PC0026

材料系   曾文甲老師

本發明提供一種二氧化鈦粒子多孔性材料的製備方法,其先提供複數個二氧化鈦粒子,且各二氧化鈦粒子包含複數個為中孔結構之第一孔洞。接著,進行表面改質步驟使界面活性劑結合至各二氧化鈦粒子之部分表面,再將改質後之二氧化鈦粒子導入水中形成懸浮液並使懸浮液發泡而形成泡沫體。最後,將泡沫體置入模具中乾燥形成胚體,再鍛燒胚體以製得二氧化鈦多孔性材料。藉此,本發明製得之二氧化鈦多孔性材料具有高孔隙率,將其作為吸油材料時具有高吸油效果。此外,本發明之二氧化鈦多孔性材料的機械強度佳且可重複使用,而可有效應用於處理污水。

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奈米異質結構、其製備方法及應用其之氣體感測器
104PC0021

材料系   曾文甲老師

本發明提供一種奈米異質結構,其包含第一奈米結構以及設置於前述第一奈米結構之表面上的複數個第二奈米結構。第一奈米結構具有一長軸方向與一短軸方向,且第一奈米結構於短軸方向上之截面積係沿著長軸方向漸縮。其中第一奈米結構包含n型半導體材料,而前述第二奈米結構包含p型半導體材料。藉此,相較於單一材質結構之氣體感測感測器,第一奈米結構與第二奈米結構間所形成之p-n接面與高比表面積等優點提升本發明提供之奈米異質結構於室溫下之氣體感測靈敏度,且前述奈米異質結構所應用之氣體感測器的氣感特性不易受濕度環境的影響。

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填充砂粒
099PE0009

材料系   曾文甲老師

一種用於填充盛鋼桶之填充砂粒,可使鋼液在盛鋼桶出鋼嘴之滑門開啟後自然開口流過。填充砂粒包含核心粉粒以及殼層。核心粉粒之材質包含碳化矽礦砂。殼層包覆於核心粉粒外,殼層之材質包含氧化矽,其中殼層易與鋼液反應形成燒結層。

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具蝕刻通道的磊晶結構及其製造方法
099PE0006

材料系   林佳鋒老師

一種具蝕刻通道的磊晶結構包含一基板、一形成於該基板的緩衝犧牲層,及一形成於該緩衝犧牲層的磊晶層,該基板包括複數條自一頂面向下凹設的蝕刻通道,對應每一蝕刻通道還包括兩面界定該等蝕刻通道的斜面,該緩衝犧牲層包括複數分別形成於該基板頂面上的緩衝犧牲塊體,該磊晶層形成於該緩衝犧牲層上且蓋於該等蝕刻通道上,該磊晶層的底面與該等斜面共同圍繞界定呈倒三角形的蝕刻通道利用該等呈倒三角形的蝕刻通道,供濕式蝕刻溶液通入,以更快速地蝕刻該緩衝犧牲層,進而提高自該磊晶層移除該基板的效率。

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阻焰薄膜及其製備方法
099PC0064

材料系   林江珍老師

本發明係提供一種阻焰薄膜及其製備方法。主要係將無機矽酸鹽黏土或其脫層形式之奈米矽片與一溶劑混合,形成一分散溶液;再使該分散溶液於一表面乾燥以除去該溶劑,並形成全無機之可撓曲薄膜,厚度約為5μm至1,000μm。該阻焰薄膜具有排列整齊之結構;於800℃火焰中70分鐘,仍無著火現象,並可保持結構完整。該阻焰薄膜亦可混掺一高分子化合物,或與一高分子化合物之薄膜或金屬膜結合形成一複合膜。

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增亮膜
112PC0008

材料系   武東星老師

我們提出一具微奈米特徵的增亮膜(BEF),應用於平面顯示裝置。微米等級的特徵圖案分布於BEF表面,具有擴散與品味(FOS)修飾功能;奈米孔隙分布於BEF內層,可提升BEF穿透率,減少光線全內反射(TIR) 並可修正使用一般BEF元件造成的色偏(color shift)現象。具微奈米特徵的BEF為單層結構,無須後加工製程,可有效減薄平面顯示裝置厚度並具集光、擴散與抑制色偏的功能。

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具有屏幕顯示按鍵的多功能控制裝置
109PE1002

材料系   武東星老師

一種具有螢幕顯示按鍵的多功能控制裝置,用於控制多種電器產品,包含框架、設置於框架中的主電路板,及多數按鍵組件。各按鍵組件設置於主電路板並包括具有連接座的電路板、設置於電路板的接觸開關、架設於接觸開關上的輔助套、穿設於輔助套的驅動電路板、連接驅動電路板的顯示模組,及透光蓋。驅動電路板具有可拆卸地接合於其所對應之連接座的連接件。當其中一按鍵組件損毀時,能輕易地汰換驅動電路板與顯示模組,以維持按鍵組件的運作功能。

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具有螢幕顯示按鍵的多功能控制裝置
109PE1001

材料系   武東星老師

一種具有螢幕顯示按鍵的多功能控制裝置,用於控制多種電器產品,包含框架、設置於框架中的主電路板,及多數按鍵組件。各按鍵組件設置於主電路板並包括具有連接座的電路板、設置於電路板的接觸開關、架設於接觸開關上的輔助套、穿設於輔助套的驅動電路板、連接驅動電路板的顯示模組,及透光蓋。驅動電路板具有可拆卸地接合於其所對應之連接座的連接件。當其中一按鍵組件損毀時,能輕易地汰換驅動電路板與顯示模組,以維持按鍵組件的運作功能。

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振動應力消除技術

材料系    吳威德教授 

當金屬物件經傳統製程處理後(如:銲接、鍛造、鑄造、熱處理等),皆會造成應力,而應力的存在會造成材料不安定,且往往為材料破損的袑始原因,故如何有效降低材料的殘留應力是一項重要的課題。目前常用的應力消除方法分為熱處理法與振動法,熱處理法因使用上對材料種類與尺寸大小有限制,而振動法對於所有金屬物件與尺寸皆適用,導致振動消除應力技術在不同金屬製程領域受到相當的重視。

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厚膜負溫度係數熱敏電阻技術

材料系    李文熙教授 

利用厚膜印刷方式取代傳統積層陶瓷方式製作高精準電阻值之負溫度係數熱敏電阻器有低成本高良率的優勢。其最重要關鍵技術有1).低溫、低電阻率與高電阻溫度係數之厚膜材料開發,2).網版印刷厚膜NTC電阻膏有機材料配方開發與3).厚膜NTC修阻雷切技術開發。

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天然黏土應用

材料系    林江珍教授 

本發明提供一種有害微生物抑制劑,係將完全脫層的奈米矽片與適當媒介或載體混合而成。與細菌與病毒等有害微生物接觸時,可藉由矽片的高度片徑比高電荷性來吸附細菌,以抑制有害微生物的生長與活動。

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一種曼尼斯胺改質黏土與其衍生之奈米矽片及其製造方法

材料系    林江珍教授 

本發明是提供一種具有優質界面活性劑效能,並可做為高分子補強劑之曼尼斯胺改質黏土和進一步所製得之奈米矽片,其係以分子量1000以上之聚醚胺、對甲酚及甲醛聚合成一直鏈狀之曼尼斯胺高分子插層劑,並以該插層劑改質矽氧層狀無稽黏土例如蒙脫土而得之曼尼斯胺改質黏土。

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固態發光結構的製造方法

材料系    武東星  洪瑞華  潘俊廷教授 

一種固態發光結構的製造方法,先在第一基板上形成氮化鎵系材料無法磊晶成長的犧牲層,再移除部分犧牲層的結構得到圖案化的犧牲層結構;然後以朝三維方向成長的磊晶生長自第一基板的預定區域形成由氮化鎵系材料構成的第一半導體結構、以朝橫向成長速度較快的磊晶生長自第一半導體結構向上形成第二半導體層、和由第二半導體層向上成長供電時發光的發光晶體層;在發光晶體層表面接合上第二基板後移除犧牲層結構形成蝕刻通道,再經由蝕刻通道移除第一基板、第二半導體層後,即製得連結在第二基板與發光晶體層的固態發光結構。

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提升紫外光發光二極體外部量子效率之方法

材料系    武東星教授 

提供一具有表面電漿共振效應之透明導電薄膜,該薄膜可用透明導電氧化物薄膜嵌入奈米金屬堆疊層形成,當作歐接觸層。由於金屬奈米粒子塗層可形成區域性表面電漿,並與橫向磁波™偏振光產生耦合效應,可有效提升紫外光發光二極體元件光萃取效率。

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磊晶元件的製作方法

材料系    武東星教授  洪瑞華教授 

一種製造半導體器件的方法,包括:(a)形成分層結構,該分層結構包括臨時基板,臨時基板上的多個間隔開的犧牲膜區域,以及犧牲膜區域中的多個谷峰區域;(b)在犧牲膜區域和谷-峰區域上橫向和磊晶生長磊晶膜層,其中在磊晶膜層和谷-峰區域之間形成間隙;(c)形成導電層以接觸磊晶膜層;(d)形成多個凹槽,以將磊晶膜層和導電層分成臨時基板上的多個磊晶結構。

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具有螢幕顯示按鍵的多功能控制裝置

材料系    武東星教授  洪瑞華教授  陳亘延  廖宗聘 

一種具有螢幕顯示按鍵的多功能控制裝置,用於控制多種電器產品,包含框架、設置於框架中的主電路板,及多數按鍵組件。各按鍵組件設置於主電路板並包括具有連接座的電路板、設置於電路板的接觸開關、架設於接觸開關上的輔助套、穿設於輔助套的驅動電路板、連接驅動電路板的顯示模組,及透光蓋。驅動電路板具有可拆卸地接合於其所對應之連接座的連接件。當其中一按鍵組件損毀時,能輕易地汰換驅動電路板與顯示模組,以維持按鍵組件的運作功能。

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亮度均勻之被動式微發光二極體陣列裝置

材料系    武東星教授  洪瑞華教授  陳柏瑋 

亮度均勻之被動式微發光二極體陣列裝置包括微發光二極體陣列及外部線路組件。微發光二極體陣列包括基板、數沿Y方向間隔佈滿基板的微發光陣列及陣列用絕緣層。各微發光陣列依序具一沿X方向延伸於基板的第一層、數間隔的發光層、第二層、第一內電極層,更具一延伸於第一層並具間隔圍繞發光層的基部及自基部凸伸之凸部的第二內電極層。陣列用絕緣層覆蓋基板並裸露第

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大面積被動式微發光二極體陣列顯示器

材料系    武東星教授  洪瑞華教授  陳柏瑋  袁碩璜 

一種大面積被動式微發光二極體陣列顯示器,包括數各具基板、微發光陣列及陣列用絕緣層的微發光二極體陣列,及具載板、數第

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陽離子結合劑及包含其之醫藥組合物

材料系    汪俊延教授 

本發明可應用於水質陰離子淨化處理程序或作為於生化環境的陰離子吸收與釋放功能材料。例如,可能提供一種用於治療患有或易患高磷血症病人的醫藥組合物。本發明還提供製造此化學成分粉末組合物的方法。一種藥物或陰離子載體作為在特定pH值環境下釋放該藥物或吸收陰離子。

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微晶粉末製備與提升其陰離子吸附技術

材料系    汪俊延教授 

本know-how技術包括微晶化粉末材料的製備程序、製備條件與熱處理程序。本微晶化粉末有利於吸附溶液中的陰離子,並造成微晶化粉末與陰離子結合,避免該陰離子於後續化學處理或生化處理過程中再次脫離至溶液中。材料粉末主要成分可能為C、H、O、Mg、Fe等;本粉末需控制其微觀材料具備淨正或負電荷,以利於吸附相關的離子物質。

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石墨烯/石墨高硬度自潤表面處理層

材料系    汪俊延教授 

以放電合金化法(Electrical Discharge Alloying, EDA)對AA6082合金進行表面 改質,放電合金化法為放電加工法逆電極之變化,本研究以純鐵電極作為負極,透過不同階段及改變不同電氣參數之放電,達到改善AA6082磨潤性質的效果,根據實驗結果顯示,兩階段放電後(脈衝時間2000 s、放電電流30 A)表面粗糙度(Ra)約為7.24 m,合金化層硬度可達到1400 HV以上,且開始有石墨相的出現,而根據文獻指出 石墨具備良好的潤滑效果。

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低溫結晶之透明導電薄膜製造方法及利用該方法所製成之物

材料系    薛富盛教授 

本發明係提出一種低溫結晶之透明導電薄膜製造方法及其利用該方法製成之導電薄膜。其中該方法係以氧化銦為主要成分之一靶材對一基板進行物理氣相沉積,其特徵在於:該靶材包含一二氧化錫成分及一過渡元素氧化物成分,且該二氧化錫相對該靶材整體之重量百分比小於或等於8wt.%;該過渡元素氧化物相對該靶材整體之重量百分比小於或等於2.5wt.%,其中該過渡元素氧化物種類為涵蓋四價或四價以上元素之氧化物,又該物理氣相沉積之環境溫度係可於室溫下進行。藉此,可於一般室溫下於該基板上形成結晶態之薄膜,且該薄膜具有低電阻、高光透之物理特性。

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TiZrHf氮化物薄膜加值應用於摩擦攪拌頭

材料系    薛富盛教授  蔡篤承 

鈦鋯鉿金屬氮化物為四元體系薄膜材料,元素組成配比視窗較廣,固溶強化作用強烈,機械性質與熱穩定性更高於傳統材料。由於靶材重元素配比,直接提高濺鍍粒子動能,無需外加偏壓或者高功率脈衝設備即可鍍製高品質硬質薄膜。鈦鋯鉿金屬氮化物同屬IV族元素,固溶之後仍能保持淡金黃色澤,附加價值較高。目前應用於摩擦攪拌銲接頭上,並已證實可延長3倍的使用壽命。

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具氫氧基磷灰石及明膠的微米球製備方法

材料系    顏秀崗教授 

一種具氫氧基磷灰石及明膠的微米球製備方法,係應用在生醫複合技術中,主要技術在於利用水熱法在明膠水溶液中加入磷酸二氫氨和硝酸鈣,並在適當的加熱溫度、攪拌時間及攪拌速率下製備生成微米球,本發明之製備方法不需任何有機溶劑,可以避免毒性化學物質的殘留,亦不需調整pH值或加入交聯劑,只需控制在特定溫度範圍下即可生成具氫氧基磷灰石及明膠的微米球。

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