技術內容
亮度均勻之被動式微發光二極體陣列裝置包括微發光二極體陣列及外部線路組件。微發光二極體陣列包括基板、數沿Y方向間隔佈滿基板的微發光陣列及陣列用絕緣層。各微發光陣列依序具一沿X方向延伸於基板的第一層、數間隔的發光層、第二層、第一內電極層，更具一延伸於第一層並具間隔圍繞發光層的基部及自基部凸伸之凸部的第二內電極層。陣列用絕緣層覆蓋基板並裸露第
廠商資格
1、廠商業別：半導體產業、顯示器產業、發光二極體產業。
2、應具備之專門技術：半導體製程技術、顯示器製程、發光二極體製程技術。
3、應有之機具設備：磊晶製程設備、曝光顯影設備、鍍膜設備、貼合設備、切割設備。
4、應有之研究或技術人員人數：10人以上。
5、實施限制：已具備微型發光二極體陣列技術者，或具備半導體製程及發光二極體製程之技術背景者，及具備磊晶製程設備、曝光顯影設備、鍍膜設備、貼合設備及切割設備等設備者，方能實施此項技術。
6、其他：無。
預期利用範圍
被動式小尺寸顯示器、微型發光二極體、顯示型按鍵等。