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大面積被動式微發光二極體陣列顯示器


技術內容


一種大面積被動式微發光二極體陣列顯示器,包括數各具基板、微發光陣列及陣列用絕緣層的微發光二極體陣列,及具載板、數第


廠商資格


1、廠商業別:半導體產業、顯示器產業、發光二極體產業。
2、應具備之專門技術:半導體製程技術、顯示器製程、發光二極體製程技術。
3、應有之機具設備:磊晶製程設備、曝光顯影設備、鍍膜設備、貼合設備、切割設備。
4、應有之研究或技術人員人數:10人以上。
5、實施限制:已具備微型發光二極體陣列技術者,或具備半導體製程及發光二極體製程之技術背景者,及具備磊晶製程設備、曝光顯影設備、鍍膜設備、貼合設備及切割設備等設備者,方能實施此項技術。
6、其他:無。


預期利用範圍


被動式中大尺寸顯示器、微型發光二極體、顯示型按鍵等。


公告編號


110-011


公告日期


110/05/26


技術來源


經濟部


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