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含有機污染物之場址的化學還原整治方法


環工系   梁振儒老師

技術摘要


一種含有機污染物之場址的化學還原整治方法,該有機污染物含有可被還原有機污染物,該方法包含:(a)調配鹼性抗壞血酸溶液,其pH值範圍為11.8以上,其中,該鹼性抗壞血酸溶液是由抗壞血酸及鹼性試劑混合而得,該鹼性試劑是用於使該鹼性抗壞血酸溶液的pH值範圍為11.8以上;(b)將該鹼性抗壞血酸溶液加入該場址中,以獲得pH值範圍為11.8以上的混合液;及(c)使該混合液中的可被還原有機物進行還原反應而獲得處理液。本發明整治方法藉由使用鹼性抗壞血酸溶液而能有效地去除場址中的有機污染物。

成果來源


國科會


申請專利國家


中華民國(發明)


專利證號


I481568