技術摘要
本發明提供一種薄膜型發光二極體的製作方法，包含：一個提供步驟、一個暫時基板形成步驟、一個基板移除步驟，及一個透光層形成步驟。首先，該提供步驟是提供一薄膜型發光二極體結構，該薄膜型發光二極體結構包括一基板、一形成於該基板表面的發光單元，以及一形成於該發光單元頂面的電極單元。接著，該暫時基板形成步驟是將一暫時基板連接於該發光單元的頂面形成一暫時結構，再接著，該基板移除步驟是將該基板移除，令該發光單元與該基板接觸的底面露出。最後，透光層形成步驟是於該發光單元的底面上形成一層透光層。本發明還提供一種薄膜型發光二極體。
成果來源
國科會
申請專利國家
中華民國（發明）
專利證號
I590487