本發明提供一種高分子薄膜的製造方法，包含提供基材、提供懸浮液、形成膠體懸浮物、進行自組裝步驟、形成一高分子單體層、進行聚合反應以及進行蝕刻步驟。經由前述步驟可形成高分子材料層於基材的表面上，其中高分子材料層的表面包含複數個凹孔，藉此可降低寬廣波長範圍之入射光反射率，並提高入射光穿透率。
國科會
中華民國（發明）
I596144