技術摘要
一種製備金屬氮氧化物膜之方法，係先將一金屬靶材與一基材置入一真空腔體中，該金屬靶材係由鈦、鋯、鉻或其合金所製成，並將背景壓力保持在5×10-6~5×10-2 torr；接著，利用物理氣相沈積法於該基材表面形成一金屬氮氧化物膜，沈積時該真空腔體之工作壓力保持於5×10-4~5×10-2 torr，並將空氣與氬氣通入該真空腔體中，其中空氣/氬氣之流量比為(12~70)/100；由於空氣之取得較純氧與純氮方便得多，且背景真空度之要求較習知方法為低，使本發明所提供之方法具有設備簡易、製程快速、成本低廉等多重優點。
成果來源
國科會
申請專利國家
中華民國（發明）
專利證號
I381059