技術摘要
一種製備金屬氮化物膜之方法，係先將一靶材與一基材置入一真空腔體中，該靶材係由鈦或鋯所製成；接著，再利用濺鍍法於該基材表面形成一金屬氮化物膜，該金屬氮化物膜係氮化鈦膜或氮化鋯膜，其中，真空腔體之工作壓力固定於5×10-4~5×10-2 torr，通入空氣與氬氣於該真空腔體中，空氣/氬氣之流量比為(5~15)/100，以一電源供應器提供輸出功率為100~5000 W之直流電，由於空氣之取得極為方便，且背景真空度之要求較習知方法為低，使本發明所提供之方法具有設備簡易、製程快速、成本低廉等優點。
成果來源
國科會
申請專利國家
美國（發明）
專利證號
US 8,524,049 B2