技術摘要
一種無機材奈米粒子的製法及應用該製法的裝置，該製法包含下列步驟：提供一複合元件，該複合元件具有一基材，及至少一層形成在該基材上且具有一預定厚度的無機材層。將該複合元件置於一腔室中，並對該腔室抽真空及提供一氣體，再於一段預定的時間內，持續對該腔室提供一微波能量，使該氣體形成一微波電漿，並作用至該複合元件的無機材層，使該無機材層熔融並形成多數個相間隔且具有預定粒徑的奈米粒子。藉此，使本發明能以較簡單的設備與方法在短時間內製出大量具有預定粒徑的奈米粒子，而具有製造成本低及製造效率佳的特性與優點。
成果來源
國科會
申請專利國家
中華民國（發明）
專利證號
I429492